性能特點如下：ETD-2000/3000型離子濺射儀是依據二(DC)直流濺射原理設計而成的，*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣制備，非導體材料實驗電制作。
*主要特點：1. 配置有樣濺射室空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)控儀器狀態(tài)；
2. 濺射電流調整控制器、微型空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得*佳鍍膜效果；
3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長期使用不會出現(xiàn)影響樣濺射室空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象；
4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的經久耐用；
5. 根據電場中氣體電離特性，采用大容量樣濺射空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。
技術參數：*配置參數如下：1、靶（上部電）：金：直徑：50mm，厚度：0.12mm
2、空樣室： 直徑：160mm，高：120mm
3、濺射面積： Ф50mm，*大放置
4、空指示表： *高空度：≤ 4X10-2 mbar
5、離子電流表： *大電流：50mA(100mA)
6、定時器： *長時間：900S
7、微型空氣閥： 可連接φ3mm軟管
8、可通入氣體： 多種
9、*高電壓： -1600（-3000）DCV
10、機械泵： 2L/S
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